事業モデル
同社は真空技術を核として、真空装置・機器を提供する「真空機器事業」と、材料や表面分析装置等を提供する「真空応用事業」の二本柱で構成される。
真空機器事業では、半導体や電子部品、ディスプレイ、エネルギー関連の製造装置を展開しており、特にスパッタリング装置やCVD装置などが主要製品となる。一方、真空応用事業では、材料提供や表面分析装置などの周辺技術を基盤とした展開を行っている。
KPI
当連結会計年度における売上高は2,511億84百万円となり、前年同期比で3.8％の減となるものの、高い水準での着地を見せている。
営業利益は265億23百万円と前年同期比で10.9％減少したものの、売上総利益率は31.8％に達しており、収益性の改善が確認できる。また、当連結会計年度末の自己資本比率は59.6％となっており、強固な財務基盤を維持している。
成長ドライバー
新中長期経営計画「バリューアッププラン」に基づき、事業ポートフォリオを半導体電子分野へ集中させる方針を掲げている。
特に先端ロジック・メモリ分野やパッケージング分野での投資は堅調に推移しており、同社独自の技術力を活かした製品の差別化とラインアップ拡充が成長の鍵となる。また、真空機器と応用事業のシナジーを活用した新規ビジネスの創出により、収益基盤の多様化も推進している。
リスク
半導体やFPDといった主要市場における地政学的リスクや景気変動の影響を受けやすく、需要の急激な変動が経営成績に影響を及ぼす可能性がある。
また、グローバルな競争環境において価格面での競争が激化しているほか、高度な技術を要する製品ゆえの品質管理や、研究開発における進捗遅延のリスクも存在する。さらに、サプライチェーンの寸断や人財確保の難航、各国における輸出入規制等の法令遵守も重要な経営課題として認識されている。
競合
同社は真空技術を基盤とした独自の技術力を強みとし、世界各国の顧客に向けて製品を提供している。
競合他社との競争においては、単なる性能の追求だけでなく、価格面での競争も激化する環境にある。これに対し、同社は顧客ニーズを的確に捉えた製品の適時投入や、研究開発への投資を通じた技術の差別化により、グローバルな市場における競争力の維持を図っている。
バリュエーション
2026年8月13日時点の株価は9,404円であり、同日のデータに基づくPERは34.60倍となっている。
同日のデータにおけるPBRは1.88倍、配当利回りは1.73%と算出されている。これらの指標は、同社が持つ技術的優位性と成長への期待を反映した水準となっている。