事業モデル
同社は最先端半導体デバイスの開発、生産、販売、保守に不可欠なリソグラフィ（露光）ソリューションを提供しています。具体的には、極端紫外線（EUV）や深紫外（DUV）を用いた高度な露光システムに加え、ウェハの品質を評価する光学計測システムや電子ビームによる欠陥解析ソリューションを展開しています。
さらに、計算リソグラフィや制御ソフトウェア、システムの更新・保守サービスなど、ハードウェアとソフトウェアの両面から顧客を支援しています。同社はオランダに拠点を置き、日本、韓国、台湾、中国を含む世界各地で半導体メーカーに対し、集積回路のパターン形成に必要な技術を提供しています。
KPI
最新の会計年度（FY2025）において、同社は326億6,730万ドルの売上高を記録しており、前年比で15.6%の成長を見せています。この期間の営業利益率は34.6%に達し、非常に高い収益性を維持しています。
また、同期間の純利益は前年比で26.9%増加しており、効率的な事業運営が確認されます。ROE（自己資本利益率）も49.0%と高く、強固な財務基盤と高い資本効率を両立していることが示されています。
成長ドライバー
同社の成長は、次世代半導体製造における高度なリソグラフィ技術への需要に支えられています。特にEUVやDUVといった先端露光システムは、より微細なチップを製造する上で不可欠な要素となっています。
財務トレンドを見ると、売上高および純利益の伸びが加速しており、市場での優位性が反映されています。高度な技術革新とそれに伴うソフトウェア・サービス3733の提供が、持続的な成長の原動力となっているとみられます。
リスク
同社の事業は最先端半導体製造に深く関わっているため、地政学的なリスクや輸出規制の影響を受けやすい構造にあります。特に中国を含むアジア圏での展開において、国際的な貿易規制が事業環境に影響を与える可能性があります。
また、高度な技術革新を継続するためには多額の研究開発投資が必要であり、次世代技術への移行スピードが重要となります。特定の先端技術に対する高い依存度は、市場の動向や技術標準の変化に対して敏感な反応を求める要因となります。
競合
同社はリソグラフィ分野において極めて高度な技術を有しており、特にEUV露光システムにおいては独自の地位を築いています。競合他社と比較しても、ハードウェアとソフトウェアを統合した包括的なソリューション提供能力が強みです。
製品ラインナップには、ウェハの品質評価を行うYieldStarや欠陥解析のためのHMIなど、多岐にわたる高度なシステムが含まれます。これらの技術的優位性が、半導体製造装置市場における強力な競争優位性を形成しています。
バリュエーション
現在の株価は1,801.51ドルであり、時価総額は約6,920億ドルに達しています。PER（株価収益率）は60.23倍となっており、市場からの高い期待値が反映されています。
PBR（株価純資産倍率）は1,621.44倍と非常に高い水準にあり、同社の技術的優位性と将来の成長性が評価されていることを示唆しています。配当利回りは0.52%となっており、投資家は配当よりも資本の成長を重視する傾向が見て取れます。