ＳＵＭＣＯ
Performance
株価チャート
業績・財務
業績・財務
| 売上高 | 4,097億円 |
| 営業利益 | 13億円 |
| 税引前利益 | -39億円 |
| 純利益 | -118億円 |
| 営業利益率 | 0.3% |
| ROE | -2.0% |
| ROA | -1.0% |
| 自己資本比率 | 48.3% |
| 総資産 | 1.1兆円 |
| 純資産 | 5,447億円 |
業績推移
売上・利益の推移
ROE・ROA の推移
四半期業績
詳細指標
詳細指標
| ROIC | — |
| ROE | — |
| ROA | — |
| FCFマージン | — |
| 粗利益率 | — |
| 営業利益率 | — |
| 営業CFマージン | — |
| 配当性向 | — |
| 配当成長率（3年） | — |
| Net Debt/EBITDA | — |
| 実効税率 | — |
| 自社株買い傾向 | — |
バランスシート
バランスシート
| ネットキャッシュ | -4,030億円 |
| NC比率 | -32.1% |
| 流動資産 | 4,770億円 |
| 有価証券 | 28億円 |
| 現金 | 898億円 |
| 負債総額 | 4,956億円 |
| 時価総額（BS時点） | 1.3兆円 |
企業レポート分析
ビジネスモデル
同社は半導体メーカー向けに、基板材料として不可欠な高品質なシリコンウェーハの製造および販売を行う「高純度シリコン事業」を展開する単一セグメント企業です。製品ラインナップは、標準的なポリッシュトウェーハから、表面に特殊加工を施した付加価値の高いエピタキシャルウェーハまで幅広く提供しています。 製造工程は、多結晶シリコンを溶融して引き上げる「単結晶引上工程」と、それをスライス・研磨・洗浄する「ウェーハ加工工程」の二段階で構成されます。300mmから200mm以下まで多様な口径に対応しており、国内外に広範な製造拠点および販売・技術サポート体制を構築しています。
主要KPI
当連結会計年度における売上高は409,670百万円（前年同期比3.3％増）を記録しました。一方で、先端製品の生産能力増強に伴う設備投資や減価償却費の負担増により、営業利益は1,342百万円（前年同期比96.4％減）に留まっています。 研究開発活動については、当連結会計年度において11,151百万円を投じており、これは連結売上高の2.7％に相当します。AIを活用した生産性向上や新製品の早期立ち上げに向けた技術革新への投資が継続的に行われています。
成長ドライバー
成長の主軸は、データセンター向けや生成AIの発展に伴う先端半導体用300mmシリコンウェーハの需要拡大にあります。同社はこの分野において高いシェアを維持しており、技術革新への対応として製造設備の高度化を進めています。 また、200mm以下の製品については、市場環境に応じた生産体制の再構築と効率化による収益改善に取り組んでいます。中長期的には、デジタルトランスフォーメーションやEVの普及といった広範な技術革新が、同社の提供するシリコンウェーハの需要を支える要因になると見込まれています。
リスク
事業環境としては、半導体デバイス市場の動向に強く依存しており、地政学的リスクやマクロ経済の変動が製品需要に影響を及ぼす可能性があります。また、競合他社との競争において、より大きな資本力や生産能力を持つ企業との価格・品質・納期に関する厳しい競争にさらされています。 供給面では、主要顧客が少数であるため特定顧客の動向による売上への影響リスクが存在します。さらに、原材料となる多結晶シリコンの調達における在庫管理や、製造設備の安定的な確保、およびサイバーセキュリティ等のシステム維持も重要な経営課題として認識されています。
競合
シリコンウェーハ市場は、高度な技術力と大規模な設備投資を必要とする参入障壁の高い分野であり、同社は世界的な競合関係の中に位置しています。特に大手企業との競争においては、価格、品質、生産能力、製品ラインアップの多角化が重要な争点となります。 同社はこれらに対し、顧客からの高度な要求に応えるための技術開発と、AIを活用した生産性の向上によるコスト競争力の強化で対抗しています。また、先端品への注力と200mm以下の効率化という二極の戦略により、市場における優位性の維持を図っています。
バリュエーション
2026年8月5日時点の市場データにおいて、同社の株価は3,756円となっています。この時点での時価総額は約11739.9億円と算出されています。 同社の投資指標として、2026年8月5日時点のPBRは2.06倍となっており、配当利回りは0.60%を記録しています。これらの数値は提供された最新の市場データに基づいたものです。