テクセンドフォトマスク
株価チャート
業績・財務
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詳細指標
詳細指標
| ROIC | — |
| ROE | — |
| ROA | — |
| FCFマージン | — |
| 粗利益率 | — |
| 営業利益率 | — |
| 営業CFマージン | — |
| 配当性向 | — |
| 配当成長率（3年） | — |
| Net Debt/EBITDA | — |
| 実効税率 | — |
| 自社株買い傾向 | — |
バランスシート
バランスシート
| ネットキャッシュ | -185億円 |
| NC比率 | -4.7% |
| 流動資産 | 687億円 |
| 有価証券 | 89億円 |
| 現金 | 289億円 |
| 負債総額 | 563億円 |
| 時価総額（BS時点） | 3,949億円 |
企業レポート分析
ビジネスモデル
同社は半導体製造工程において極めて重要な役割を果たす「フォトマスク」の製造・販売を行う企業です。特に、内製機能を持たないファウンドリや、生産能力を超える需要を持つメーカーから外販向けとして受注を受けるビジネスモデルを展開しています。 製品は、高度な微細加工技術を要する先端領域から安定した需要がある成熟プロセスまで幅広く対応しています。世界各地に展開する8つの製造拠点と広範なサービスネットワークを活用し、高品質な製品を安定した納期で提供する体制を構築しています。
主要KPI
当連結会計年度の売上収益は129,576百万円となり、前年同期比で9.8％の増加を記録しました。一方で、材料費や減価償却費の増加、および上場に伴う一過性費用の影響により、営業利益は27,530百万円（前期比2.4％減）となりました。 当期における純利益は24,947百万円に達し、前年同期と比較して150.9％の増加を見せています。また、研究開発活動を通じて次世代EUVマスク向け吸収膜の開発など、高付用意な技術領域での競争力強化を継続的に進めています。
成長ドライバー
成長の主要な原動力は、生成AIの普及やデータセンター投資の拡大に伴うロジック・メモリ半導体の需要増です。特に先端ノードにおいては、微細化・高集積化の進展により、高度な技術を要するフォトマスクへの需要が堅調に推移しています。 また、新事業領域としてナノインプリントモールド等の開発も進めています。さらに、研究開発段階から顧客や装置ベンダーと連携することで、量産前の段階から安定した受注を獲得できる体制の構築を推進しています。
リスク
半導体業界特有の需要変動に加え、地政学リスクや貿易摩擦がサプライチェーンに与える影響が重要なリスク要因となります。特に特定の原材料や設備において供給元が限られる場合、代替品の確保や認定に時間を要する可能性があります。 また、海外展開に伴う為替相場の変動や、各国における輸出規制・安全保障政策の動向も注視すべき要素です。これらに対し、同社は複数拠点での在庫管理や、リスクヘッジ手段の活用、さらには多角的な販売先との取引構築により対応を図っています。
競合
外販フォトマスク市場は、同社を含む比較的少数のベンダーによって構成される参入障壁の高い市場です。近年、中国において新興ベンダーが台頭しており、価格競争や技術競争の激化が懸念される環境にあります。 これに対し同社は、最先端からレガシーまで幅広いノードへの対応力と、高度な技術開発による差別化で対抗しています。また、特定の顧客への依存度を抑制するため、広範な販売先との取引関係の構築を進めることで競争優位性を維持しています。
バリュエーション
2025年3月31日時点の市場データに基づくと、同社の株価は1,486円（2025年3月31日時点）となっています。この時の時価総額は179億4,000万円であり、PERは15.1倍、PBRは3.4倍と算出されています。 また、同社の配当利回りは1.6%となっており、安定した事業基理に基づいた投資判断の材料となります。これらの数値は提供された最新の市場データに基づくものです。