サムコ
Performance
株価チャート
業績・財務
業績・財務
| 売上高 | 82億円 |
| 営業利益 | 20億円 |
| 税引前利益 | 21億円 |
| 純利益 | 15億円 |
| 営業利益率 | 24.6% |
| ROE | 12.0% |
| ROA | 9.1% |
| 自己資本比率 | 76.3% |
| 総資産 | 161億円 |
| 純資産 | 123億円 |
業績推移
売上・利益の推移
ROE・ROA の推移
詳細指標
詳細指標
| ROIC | — |
| ROE | 15.29% |
| ROA | 9.59% |
| FCFマージン | 31.81% |
| 粗利益率 | 51.25% |
| 営業利益率 | 34.04% |
| 営業CFマージン | 35.25% |
| 配当性向 | 27.00% |
| 配当成長率（3年） | — |
| Net Debt/EBITDA | 6.60 |
| 実効税率 | — |
| 自社株買い傾向 | — |
バランスシート
バランスシート
| ネットキャッシュ | 37億円 |
| NC比率 | 4.9% |
| 流動資産 | 135億円 |
| 有価証券 | 3億円 |
| 現金 | 82億円 |
| 負債総額 | 49億円 |
| 時価総額（BS時点） | 739億円 |
企業レポート分析
ビジネスモデル
同社は半導体等電子部品製造装置のメーカーとして、薄膜形成・加工に関する高度な技術を提供しています。主な製品群は、独自のLS-CVDやALDを含むCVＤ装置、高密度プラズマを利用したエッチング装置、および環境に配慮したAqua Plasmaなどの洗浄装置です。 これらの装置は、化合物半導体、シリコン半導体、電子部品、ヘルスケア関連など多岐にわたる分野で活用されています。製造工程においては、自社設計に基づき協力会社へ委託しつつ、独自のプログラムや厳格な検査を経て製品を供給する体制を構築しています。
主要KPI
当事業年度の売上高は9,342百万円となり、前年同期比で13.9％の成長を記録しました。そのうちエッチング装置が5,503百万円と最大規模を占め、次いでCVＤ装置が1,799百万円、部品・メンテナンスが1,354百万円となっています。 利益面では、営業利益が2,342百万円（前年比16.1％増）、当期純利益が1,697百万円（前年比15.3％増）と堅調に推移しました。受注高も9,104百万円と前年を上回っており、良好な需要の推移を示唆しています。
成長ドライバー
成長戦略の柱として、研究開発向けの強みを活かしつつ、より広範な市場に向けた生産機販売の強化を推進しています。特にAI関連投資に伴うデータセンター向け半導体や、次世代通信規格である6Gを見据えた高度な技術への需要を取り込む方針です。 また、海外売上高比率50％以上を目指し、北米、台湾、中国、韓国といった主要市場でのシェア拡大に加え、欧州やインドなどの新市場開拓にも注力しています。さらに、独自の薄膜技術を医療やエネルギー分野へ展開する新規事業の創出も中長期的な成長戦略に組み込まれています。
リスク
半導体業界特有の動向として、AI関連投資の拡大による追い風がある一方で、経済環境の変化による設備投資の凍結や急激な需要変動がリスク要因となります。また、高度な技術を支える専門性の高い人材の確保と育成は、持続的な成長に向けた重要な課題として認識されています。 供給面では、特殊な部品や原材料の調達において仕入先が限定されるため、安定供給体制の構築が不可欠です。さらに、地政学的リスクや各国の貿易政策の変化など、グローバル展開におけるカントリーリスクへの対応も継続的な課題として挙げられています。
競合
同社は独自の技術開発力を強みとし、特にCVＤやエッチングといった高度なプロセスにおいて差別化を図っています。競合他社との差異化のため、独自材料やプロセスの活用に加え、新製品のタイムリーな市場投入に向けた技術戦略会議を毎月開催する体制を整えています。 また、研究開発から生産現場への展開を見据えた多角的なアプローチを展開しています。高度な専門性を要する分野において、独自のプログラムやノウハウを組み込むことで、顧客の多様なニーズに応える製品群を提供し、市場での優位性を確保する戦略をとっています。
バリュエーション
2026年8月13日時点の株価は9,820円となっており、同日の時価総額は約709.3億円です。この時点におけるPERは40.98倍、PBRは4.84倍と算出されています。 また、同日時点での配当利回りは0.85%となっています。これらの数値は、同社が持つ高度な技術力や成長期待を反映した市場評価の指標となります。
企業情報
SAMCO Inc. manufactures and sales semiconductor and materials in Japan and internationally. The company primarily offers thin film deposition, microfabrication, cleaning, and surface treatment products. Its deposition systems include atomic layer deposition systems, Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) systems, liquid source CVD systems, and diamond-like carbon coating systems; and etching systems comprise inductively coupled plasma (ICP), silicon deep reactive ion, reactive ion, and xenon difluoride etching systems. It also provides Aqua Plasma cleaner, a plasma processing equipment; plasma cleaners; and UV ozone cleaners. The company was formerly known as SAMCO International, Inc. and changed its name to SAMCO Inc. in December 2004. SAMCO Inc. was incorporated in 1979 and is headquartered in Kyoto, Japan.
| ウェブサイト | https://www.samco.co.jp |
| CEO | Mr. Osamu Tsuji |
| 住所 | 36 Waraya-cho, Kyoto, 612-8443, Japan |
| 電話番号 | 81 7 5621 7841 |
| 取引所 | JPX |
| 国 | Japan |